ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン

C6F6 マーケットインテリジェンスレポート（2026年7月）

I. 価格動向
1. 最近の価格帯
- 2026年7月のスポット価格：395万～490万元／トン（極端な事例として490万元／トンに達する報価あり）、年初の220万元／トンから100％以上上昇。
- 長期契約（LTC）価格：需給逼迫が持続・深化していることを反映し、2026年7月に395万～475万元／トンへ引き上げられた。

2. 期間別パフォーマンス
- 第1四半期（Q1）：220万～240万元／トン；市場は安定を保っていたものの供給が逼迫しており、取引は主に長期契約注文で占められていた。
- 第2四半期（Q2）：4月には、日本・韓国メーカーによる海外供給の縮小（生産削減）と国内ウエハー製造ファブによる在庫積みが重なり、価格が260万～280万元／トンへ上昇；5月～6月には、スポット市場における深刻な供給不足が価格急騰を招き、300万～380万元／トンへ達し、一部報価では400万元／トンを超えた。
- 第3四半期（現時点）：7月のスポット価格は395万～490万元／トンで高止まりが続いており、LTC価格もこれに合わせて上方修正されている。

II. 供給・需要の基本的分析
1. 供給面
- グローバルな高純度（≥5Nグレード）有効生産能力：約1,800トン／年。中国・豪華科技（HAOHUA Technology、1,200トン／年、シェア57％）が首位で、次いで日本の関東電化工業（Kanto Denka）およびドイツのリンデ（Linde）が続く。
- 国内生産能力：豪華科技が中国市場の90％超を独占；中国船舶重工特殊ガス（CSSC Special Gases）の200トン／年のプロジェクトは環境影響評価を取得済みだが、未稼働；武漢華騰ガス（Wuhan Huateng Gas）の300トン／年のプロジェクトは2026年末までの操業開始が予定されている。
- 海外供給の縮小：日本・韓国の生産者は原材料不足および環境規制遵守の圧力により生産を削減。2026年の中国向け輸出は40～50％減少した。関東電化工業の渋川工場はサムスン、マイクロンといった業界大手への供給を最優先しており、スポット市場向け供給量は極めて限定的である。

2. 需要面
- グローバル需要：2,500トン／年以上で、供給ギャップは約40％；国内需要は2,000トン／年以上に達し、深刻な需給不均衡が顕在化している。
- 下流需要の主な牽引要因：
- 先端プロセス半導体：7nm／5nm／3nmロジックチップ、HBM（High Bandwidth Memory）、200層超の3D NANDフラッシュメモリにおけるディープトレンチ垂直エッチングに不可欠なエッチングガスであり、代替可能な製品は存在しない。
- AIコンピューティング需要：データセンターおよび高性能コンピューティング（HPC）分野の急速な拡大が、需要増加を強く後押ししている。
- 加速する国内代替：中国のファウンドリ（例：SMIC、YMTC）がサプライチェーンのレジリエンス確保のため、国産C6F6の調達を積極的に増加させている。

III. 主な推進要因
1. 短期要因
- 堅牢な海外供給制約：日本・韓国メーカーによる生産削減が継続中；関東電化工業の水島工場および中国における第II期工場の増産計画は遅延中；リンデやエアリキド（Air Liquide）による新規増産も実現していない。
- パニック買い：7月1日、関東電化工業がタングステンヘキサフルオライド（WF?）生産ラインを恒久停止し、「日本の特殊ガスは信頼できない」という広範なサプライチェーン懸念を誘発。これを受け、ウエハー製造ファブが過大なC6F6注文を発注している。
- 増産への長期間要件：高純度C6F6の新規生産施設建設には18か月以上が必要であり、さらにサムスンやTSMCなど顧客による厳しい品質認証（Qualification）を経る必要があるため、短期的な供給緩和は見込めない。

2. 中長期要因
- 高い技術的障壁：超高純度（5N＋）精製技術は極めて高度であり、世界で量産能力を持つ企業はわずか3社のみ。豪華科技は事実上の独占的地位を確立している。
- 政策支援：中国「第14次五カ年計画」においてC6F6は「重要な電子用特殊ガス」と明記され、税制優遇措置および研究開発補助金が提供されている。
- 持続的な下流需要拡大：AI、5G、新エネルギー車分野からの先端プロセスチップ需要の急増により、グローバルC6F6市場規模は2031年までに15.94億米ドル（CAGR：16.9％）に達すると予測される。

IV. 価格見通しおよびリスク評価
1. 短期見通し（2026年第3～第4四半期）
- 第3四半期（Q3）：価格は高水準で横ばいが予想される——395万～490万元／トン。主な支持要因：在庫調整作業の進行と同時に残存するパニック心理；スポット市場における継続的な希少性。
- 第4四半期（Q4）：穏やかな価格修正が予想される——200万～250万元／トン。潜在的な下方要因：
国内における集中した増産（豪華科技の増産＋華騰ガスの操業開始）；
グローバルなサプライチェーン多様化の完了（リンデおよびエアリキドによる新規増産の本格稼働）；
消費財電子機器需要の季節的減速および3D NANDの設備投資ペースの鈍化。

2. 中長期見通し（2027～2028年）
- 供給ギャップの解消は当面困難：豪華科技が2027年に1,400トン／年まで増産しても、予測されるグローバル需要（3,000トン／年以上）は依然として供給を上回り、価格の下限は250万～300万元／トンで安定する可能性が高い。
- 国内代替の深化：中国船舶重工特殊ガスまたは華騰ガスが5Nグレード精製を成功裏に達成すれば、価格競争が激化する可能性はあるが、プレミアムセグメントは引き続き豪華科技が支配する。

3. 主なリスク
- 地政学的緊張：中国と日本・韓国間の貿易摩擦の激化により、C6F6の対中輸出規制が発動される可能性。
- 技術的代替リスク：新規エッチング剤（例：パーフルオロブタジエン誘導体など）の商業化により、C6F6需要が侵食される可能性。
- 厳格化する環境規制：高純度C6F6の製造はエネルギー消費が大きく、排出量も多いことから、中国の「二つの炭素目標（ダブルカーボン）」政策の加速実施により、今後の増産が制約を受ける可能性。