三塩化ホウ素

三塩化ホウ素は、室温で無色の発煙性液体であり、刺激的で鋭い臭気を有し、揮発性が高い。その沸点は12.6 ℃、融点は–107.3 ℃である。三塩化ホウ素は無機共有結合化合物であり、強いルイス酸である。主に触媒および化学合成における中間体として用いられ、高純度のホウ素含有材料（元素ホウ素、ホウ素窒化物、ボロシリケートガラスなど）の製造に使用される。主な応用分野には、半導体製造（ドーパント源として）、光ファイバーケーブルの製造、および電子・耐火材料向け特殊無機化合物の合成が含まれる。

Boron trichloride can be used to produce high purity boron, catalyst in organic synthesis, fluxing agen for decomposition of silicate, boronizing steel, produce Boron nitride and borane compound. Boron trichloride is mainly used in the diffusion, ion implantation, the dry etching process for producing silicon semiconductor devices and integrated circuits in electronic industry. Boron trichloride is Used as a semiconductor silicon doping source. Boron trichloride is Used for the preparation of fatty acid methyl ester and for ester exchange reaction of triglyceride.

この化学物質は基礎化学品に含まれています。三塩化ホウ素とは何か、および三塩化ホウ素のSDS情報について詳しくご覧ください。